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Galvanoplastie
Electrolytes pour la galvanoplastie
Nos clients nationaux et internationaux apprécient les performances exceptionnelles de bains électrolytiques, qui produisent des dépôts de métaux optimaux même dans des conditions difficiles. Les électrolytes sont adaptés pour les traitements en vrac ainsi que pour le traitement à l'attache.
Procédé de cuivrage cyanuré. Permet des dépôts épais à cristaux fins et résistants, même avec de faibles épaisseurs de couches. Pour traitement en vrac et à l'attache.
Procédé de cuivrage brillant. Dépôts très brillants, lisses et ductiles. Pour traitement en vrac et à l'attache.
| Article | Description |
|---|---|
| RUBIN F 2000 | Contient des colorants, système à deux composants + solution de montage |
| RUBIN F 1000 | Contient des colorants, système à un composant + solution de montage |
| RUBIN T 200 | Système sans colorants et sans méthanol |
Procédé de nickelage semi-brillant, sans sulfate. La différence de potentiel par rapport à la couche de nickel brillant déposée ultérieurement permet d’obtenir une meilleure résistance contre la corrosion.
Procédé de nickelage brillant. Pour des dépôts très brillants, ductiles et très lisses dans une large plage de densité de courant.
| Article | Description |
|---|---|
| ORION 3000+ | Très bonne nivelance. Utilisable à l’attache et au tonneau |
| ORION 4000 | Très bonne nivelance. Utilisable à l’attache et au tonneau |
| SIRIUS | Très bonne nivelance. Utilisable à l’attache et au tonneau |
| POLARIS GT 10 | Nickelage à l'attache |
| POLARIS GT 24 | Nickelage à l'attache |
Procédé de nickelage avec un aspect «velours».
| Article | Description |
|---|---|
| MERKUR C | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR D | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR E | Dépôt du système finement dispersé à faible teneur en métal |
| MERKUR G | Dépôt du système dispersé à faible teneur en métal |
| MERKUR H | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR I | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR K | Déposition d'une émulsion en combinaison avec avec un module de chauffage/refroidissement |
| MERKUR L | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
Procédé de chromage trivalent et hexavalent. Excellente pénétration et dépôts très brillants.
Electrolyte au chrome brillant
| Article | Description |
|---|---|
| SAPHIR 14 | Chrome hexavalent décoratif |
| SAPHIR 17 | Chrome hexavalent décoratif |
| SAPHIR 1038 | Chrome trivalent décoratif à base de chlorure |
| SAPHIR 2000 | Chrome trivalent décoratif à base de sulfate |
Electrolyte au chrome noir
| Article | Description |
|---|---|
| SAPHIR TS | Excellent pouvoir couvrant et temps d'exposition court |
Procédé pour la préparation des plastiques
Système colloïdal
| Article | Description |
|---|---|
| SURFAPLATE ET–KS | Décapant à base d’acide chromique et à l'acide sulfurique pour le système colloïdal |
| SURFAPLATE Reductor | Réduction du chrome hexavalent |
| SURFAPLATE Activator–KS | Activation du palladium pour le système colloïdal |
| SURFAPLATE Accelerator–KS | Accélérateur pour éliminer les colloïdes d'étain, acide |
| SURFAPLATE Accelerator–ALC | Accélérateur pour éliminer les colloïdes d'étain, alcaline |
| SURFAPLATE EN 1000 | Electrolyte de nickel chimique, sans ammonium |
| SURFAPLATE EN 2000 | Electrolyte de nickel chimique, sans ammonium |
La métallisation directe
| Article | Description |
|---|---|
| SURFAPLATE ET | Décapage sulfurique/chromique pour la métallisation directe |
| SURFAPLATE Reductor | Réduction du chrome hexavalent |
| SURFAPLATE Activator | Activation à base de palladium pour la métallisation directe |
| SURFAPLATE Selector | Forme le support conductible sur lequel le cuivre peut être déposé directement |
Procédé de zingage alcalin sans cyanure. Excellent pouvoir de pénétration, dépôts ductiles et excellente répartition. Utilisation possible comme électrolyte zinc-fer avec l’additif TOPAS 3100 FE.
Procédé de zingage acide. Dépôts très brillants et ductiles, même avec une densité de courant élevée ; également disponible en version sans acide borique
Procédé de zinc-nickel alcalin
| Article | Description |
|---|---|
| OPAL 5000 | Procédé de zinc-nickel alcalin. Très bonne brillance et excellente répartition du métal. Facile d’utilisation. |
| OPAL 7000 | Procédé de zinc-nickel alcalin. Développement spécial pour traitement à l’attache. Très résistant aux brûlures aux fortes densités de courant. Dépôt très ductile pour déformation ultérieure. Degré de brillance allant de technique à très brillant. |
Procédé zinc-nickel acide.
Procédé d’étamage acide
- Pour dépôts techniques et décoratifs
- Dépôts adhérents et résistants
Procédé de cuivrage alcalin sans cyanure:
Dépôts épais, résistants et brillants avec une répartition exceptionnelle et un excellent pouvoir couvrant.
Procédé de chromage hexavalent «dépôts rapide». Bains catalysés.
| Article | Description |
|---|---|
| SAPHIR 25 | Procédé de chromage dur, déposition rapide, sans fluorure, utilisation d'anodes en titane platinées nécessaire |
| SAPHIR 40 | Procédé de chromage dur, à déposition rapide, sans fluorure |
Procédé de zingage cyanuré. Brillance élevée dans l'ensemble de la plage de densité du courant. Pour traitements en vrac et à l'attache.