Galvanoplastie
Nos clients nationaux et internationaux apprécient les performances exceptionnelles de bains électrolytiques, qui produisent des dépôts de métaux optimaux même dans des conditions difficiles. Les électrolytes sont adaptés pour les traitements en vrac ainsi que pour le traitement à l'attache.
Electrolytes pour la galvanoplastie
CHELUX®
Procédé de cuivrage cyanuré. Permet des dépôts épais à cristaux fins et résistants, même avec de faibles épaisseurs de couches. Pour traitement en vrac et à l'attache.
RUBIN
Procédé de cuivrage brillant. Dépôts très brillants, lisses et ductiles. Pour traitement en vrac et à l'attache.
| Article | Description |
|---|---|
| RUBIN F 2000 | Contient des colorants, système à deux composants + solution de montage |
| RUBIN F 1000 | Contient des colorants, système à un composant + solution de montage |
| RUBIN T 200 | Système sans colorants et sans méthanol |
Pre ORION
Procédé de nickelage semi-brillant, sans sulfate. La différence de potentiel par rapport à la couche de nickel brillant déposée ultérieurement permet d’obtenir une meilleure résistance contre la corrosion.
ORION®, SIRIUS® et POLARIS
Procédé de nickelage brillant. Pour des dépôts très brillants, ductiles et très lisses dans une large plage de densité de courant.
| Article | Description |
|---|---|
| ORION 3000+ | Très bonne nivelance. Utilisable à l’attache et au tonneau |
| ORION 4000 | Très bonne nivelance. Utilisable à l’attache et au tonneau |
| SIRIUS | Très bonne nivelance. Utilisable à l’attache et au tonneau |
| POLARIS GT 10 | Nickelage à l'attache |
| POLARIS GT 24 | Nickelage à l'attache |
MERKUR
Procédé de nickelage avec un aspect «velours».
| Article | Description |
|---|---|
| MERKUR C | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR D | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR E | Dépôt du système finement dispersé à faible teneur en métal |
| MERKUR G | Dépôt du système dispersé à faible teneur en métal |
| MERKUR H | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR I | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
| MERKUR K | Déposition d'une émulsion en combinaison avec avec un module de chauffage/refroidissement |
| MERKUR L | Procédé de Nickel velours. Teneur en Nickel supérieure à 105 g/l |
SAPHIR®
Procédé de chromage trivalent et hexavalent. Excellente pénétration et dépôts très brillants.
Electrolyte au chrome brillant
| Article | Description |
|---|---|
| SAPHIR 14 | Chrome hexavalent décoratif |
| SAPHIR 17 | Chrome hexavalent décoratif |
| SAPHIR 2000 | Chrome trivalent décoratif à base de sulfate |
Résines absorbantes
| Article | Description |
|---|---|
| SAPHIR 1038 | pour l'élimination sélective des métaux étrangers (Ni, Cu et Fe) dans SAPHIR 2000 |
| SAPHIR 1076 | pour l'élimination sélective des métaux étrangers (Fe et Zn) dans SAPHIR 2000 |
Electrolyte au chrome noir
| Article | Description |
|---|---|
| SAPHIR TS | Excellent pouvoir couvrant et temps d'exposition court |
SURFAPLATE
Procédé pour la préparation des plastiques
Système colloïdal
| Article | Description |
|---|---|
| SURFAPLATE ET–KS | Décapant à base d’acide chromique et à l'acide sulfurique pour le système colloïdal |
| SURFAPLATE Reductor | Réduction du chrome hexavalent |
| SURFAPLATE Activator–KS | Activation du palladium pour le système colloïdal |
| SURFAPLATE Accelerator–KS | Accélérateur pour éliminer les colloïdes d'étain, acide |
| SURFAPLATE Accelerator–ALC | Accélérateur pour éliminer les colloïdes d'étain, alcaline |
| SURFAPLATE EN 1000 | Electrolyte de nickel chimique, sans ammonium |
| SURFAPLATE EN 2000 | Electrolyte de nickel chimique, sans ammonium |
La métallisation directe
| Article | Description |
|---|---|
| SURFAPLATE ET | Décapage sulfurique/chromique pour la métallisation directe |
| SURFAPLATE Reductor | Réduction du chrome hexavalent |
| SURFAPLATE Activator | Activation à base de palladium pour la métallisation directe |
| SURFAPLATE Selector | Forme le support conductible sur lequel le cuivre peut être déposé directement |
TOPAS®
Procédé de zingage alcalin sans cyanure. Excellent pouvoir de pénétration, dépôts ductiles et excellente répartition.
TOPAS 4100 peut également être utilisé comme électrolyte de zinc-fer avec notre additif TOPAS Fe Additive.
OPAL®
Procédé de zinc-nickel alcalin
| Article | Description |
|---|---|
| OPAL 5000 | Procédé de zinc-nickel alcalin. Très bonne brillance et excellente répartition du métal. Facile d’utilisation. |
| OPAL 7000 | Procédé de zinc-nickel alcalin. Développement spécial pour traitement à l’attache. Très résistant aux brûlures aux fortes densités de courant. Dépôt très ductile pour déformation ultérieure. Degré de brillance allant de technique à très brillant. |
KORONA®, SYSTOTIN
Procédé d’étamage acide
| Article | Description |
|---|---|
| KORONA® |
|
| SYSTOTIN |
|
TURMALIN
Procédé de cuivrage alcalin sans cyanure:
Dépôts épais, résistants et brillants avec une répartition exceptionnelle et un excellent pouvoir couvrant.
SAPHIR® Electrolyte au chrome dur
Procédé de chromage hexavalent «dépôts rapide». Bains catalysés.
| Article | Description |
|---|---|
| SAPHIR 25 | Procédé de chromage dur, déposition rapide, sans fluorure, utilisation d'anodes en titane platinées nécessaire |
| SAPHIR 40 | Procédé de chromage dur, à déposition rapide, sans fluorure |
Tèlèchargements
PROMAT
Procédé de zingage cyanuré. Brillance élevée dans l'ensemble de la plage de densité du courant. Pour traitements en vrac et à l'attache.
PROCÉDÉS DE MÉTAUX PRÉCIEUX
SYSTO BRONZE – Bronze blanc et jaune
| Article | Couleur | Application | Description |
|---|---|---|---|
| SYSTO BRONZE WKR | Blanc | Rack | Procédé de bronze blanc et brillant avec une excellente résistance à la corrosion, au ternissement et à l'usure. |
| SYSTO BRONZE WKB | Blanc | Tonneau | Procédé de bronze blanc et brillant avec une excellente résistance à la corrosion, au ternissement et à l'usure. |
| SYSTO BRONZE YK | Jaune | Rack | Procédé bronze jaune sans plomb, délivrant un dépôt jaune pâle. |
| SYSTO BRONZE YL | Jaune | Rack & Tonneau | Procédé de bronze jaune avec brillanteur contenant du plomb, délivrant un dépôt jaune pâle. |
SYSTOR – Dorure technique
| Article | Description |
|---|---|
| SYSTOR CSTD | Procédé technique acide d'or cobalt. Applications rack, tonneau, vibrobot. |
| SYSTOR NSTD | Procédé technique acide or nickel. Applications rack, tonneau, vibrobot. |
| SYSTOR CSTR | Procédé technique d'or cobalt pour applications Reel to Reel. |
| SYSTOR NSTR | Procédé technique d'or nickel pour applications Reel to Reel. |
| SYSTOR TL1001 | Procédé technique d'or pur avec d'excellentes propriétés de soudabilité. |
SYSTOR – Dorure décorative
Gold strike
Pré-dorure acide afin d'assurer l'adhérance des dépôts et limités les contaminations.
| Article | Description |
|---|---|
| SYSTOR P1000 | Pré-dorure faiblement acide pour applications décoratives et électroniques. |
| SYSTOR PC-INOX | Pré-dorure Fortement acide. Adhésion parfaite sur acier inoxydable et alliages de nickel difficiles. |
Hard Gold
Dépôt d'or 22 à 24 carats pour une application décorative avec une excellente résistance à l'usure et à la corrosion
| Article | Description |
|---|---|
| SYSTOR 1N14 | Teinte jaune pâle brillant 1N14 |
| SYSTOR 1N ECO | Sans nickel ni cobalt, teinte jaune pâle brillant 1N14 |
| SYSTOR 2N18 | Teinte 2N18 |
| SYSTOR 2N ECO | Sans nickel ni cobalt, teinte or jaune vif 2N18 |
| SYSTOR 3N | Or riche et brillant 3N |
| SYSTOR 3N ECO | Sans nickel ni cobalt, teinte or riche et brillant 3N |
Or Bas carat
Dépôt d'or 14 à 18 carats pour application décorative avec une bonne résistance à la corrosion
| Article | Description |
|---|---|
| SYSTOLLOY GC | Procédé d'or rose délivrabnt un alliage variant de 14 à 18 carats. |
| SYSTOLLOY 75Y | Procédé d'or 14 à 18 carats de teinte jaune pâle. |
| SYSTOR S 1016 | Procédé d'or rose 5N d'environ 16 carats, sans cyanure. |
| SYSTOR S 1020 | Sans cyanure pour une teinte or pâle très brillante avec de légers reflets roses. |
SYSTOR – Or Flash
Dépôt de faible épaisseur d'or avec une large gamme de teintes de 0,5N à 5N.
| Article | Description |
|---|---|
| SYSTOR FLASH | Procédé fonctionnant sous densité de courant. L'or peut être allié au nickel, au cuivre et/ou à l'argent. |
| SYSTOR FLASH ECO | Procédé neutre. L'or peut être allié avec du cuivre, de l'argent, du ruthénium. |
| SYSTOR FLASH PTS | Procédé fonctionnant sous tension. L'or peut être allié avec du nickel, du cuivre et/ou de l'argent. |
SYSTOPAL – Palladium
Dépôt brillant et blanc extrêmement résistant à la corrosion.
| Article | Description |
|---|---|
| SYSTOPAL 8020 | Dépôt blanc, brillant et nivelant. Extrêmement résistant à la corrosion, palladium (80%) nickel (20%). Dépôt hypoallergénique (autorisé pour les parties en contact avec la peau). |
| SYSTOPAL 1000 | Dépôt de palladium pur blanc et brillant. Extrêmement résistant à la corrosion. Application rack,tonneau, R2R. |
SYSTO RU – Ruthenium
- Anthracite à noire, jusqu'à 0,3 µm.
- Excellente résistance à l'usure et à la corrosion - dureté élevée
- Application rack et tonneau